林本坚

林本坚

林本坚（Burn J. LIN ），男，1942年出生在越南，中国台湾人，祖籍广东潮汕 ，美国国家工程院院士，台湾“中央研究院”院士，台湾清华大学、台湾交通大学、台湾大学特聘讲座教授，清大—台积电联合研发中心主任。

林本坚于1959年到台湾新竹高级中学读书。 1963年获得台湾大学电机工程学系学士。 1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程学系博士。 1970年起就职于IBM，历任研究员、研发经理、部经理；期间于1975年做出当时光刻领域最短波长的光线，并命名为深紫外线（DEEP Ultra-Violet，简称DUV）。1992年起在美国创立领创公司并任总经理。2000年返回中国台湾加入台积电 ，历任资深处长、杰出科技院士和副总经理。 期间于2002年发明了“浸润式微影技术”，彻底改变了集成电路的生产。 2008年当选美国国家工程学院院士。 2014年成为第一位出身业界的中国台湾“中央研究院”院士。 2015年底，从台积电退休。 2016年起，任台湾清华大学特聘研究讲座教授。

林本坚专注于半导体制程中的微影技术的研发，带领团队创造出许多领先全球的技术，包括1.25微米、1微米、0.75微米、0.5微米、0.35微米的微影技术。 其一系列突破性的创新所开拓的浸润式微影（也称光刻）方法，革新了集成电路的制程，使先进半导体芯片的特征尺寸能持续缩减为细微纳米量级，为建造最强大的计算和通信系统做出了关键贡献。 林本坚曾多次获美国IBM杰出发明奖 ；并于2018年9月8日未来科学大奖—数学与计算机科学奖。

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